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Richard“XIWUER es muy innovador. Han proporcionado el servicio excelente, intuitivo, anticipando en el futuro en cuanto a lo que puede ser que necesitemos.” -
MikeEl “esmero de XIWUER a diseñar diversas especificaciones para cumplir nuestros requisitos de proceso rigurosos es un testamento a nuestros años de investigación y desarrollo.” -
Cásese“XIWUER tiene capacidades impresionantes de la investigación y demuestra buenas capacidades de la creación de un prototipo y alta calidad del producto.”
Los capacitores de perilla de alto voltaje juegan un papel central en los equipos avanzados de procesamiento de materiales // Limpieza por plasma, pulverización catódica por magnetrón, modificación de la superficie con láser...
| Lugar de origen | XIAN, SHANNXI CHINA |
|---|---|
| Nombre de la marca | XIWUER |
| Certificación | ISO9001,ISO14001,OHSAS18001 |
| Número de modelo | CT8-2-30KV-1000PF |
| Cantidad de orden mínima | 1 pieza |
| Precio | Negociable |
| Detalles de empaquetado | Caja de cartón |
| Tiempo de entrega | 10-15 días |
| Condiciones de pago | L/C, T/T |
| Capacidad de la fuente | 4.000.000 PC al año |
Éntreme en contacto con gratis las muestras y los vales.
whatsapp:0086 18588475571
wechat: 0086 18588475571
Skype: sales10@aixton.com
Si usted tiene alguna preocupación, proporcionamos ayuda en línea de 24 horas.
x| Resaltar | Condensador de perilla de alto voltaje de 30 kV-1000 pF,Condensador cerámico de alto voltaje de 30 kV-2700 pF,Condensador de perilla de 30 kV-12000 pF |
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|---|---|---|---|
Componentes esenciales para la limpieza de plasma, pulverización por magnetrones, modificación de superficies láser y otras aplicaciones avanzadas de procesamiento de materiales.
| - No, no es así. | Especificación | Dissipación | Resistencia a la tensión | Resistencia al aislamiento | Dimensiones (mm) |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 20kV-2000pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 45 H: 19 L: 23 D: 12 M:5 |
| 2 | 20 kV-10000 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 65 H: 15 L: 19 D: 12 M:5 |
| 3 | 20 kV-18000 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 80 H: 17 L: 25 D: 12 M:5 |
| 4 | 30 kV-1000 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D:45 H:24 H:24 L:32 D:12 M: ¿Qué quieres decir con eso?4 |
| 5 | 30 kV a 2700 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 60 H: 20 L: 28 D: 12 M:4 |
| 6 | 30 kV a 12000 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 45 H: 19 L: 23 D: 12 M:5 |
| 7 | 40 kV a 150 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 74 H: 18 L: 26 D: 12 M:5 |
| 8 | 40 kV a 500 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 28 H: 33 L: 41 D: 8 M:4 |
| 9 | 40 kV a 7500 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D:80 H:24 L:29 D:12 M: ¿Qué quieres decir?6 |
| 10 | 40 kV-10000 pF | ≤ 00040 | 1.5Ur● 1min | ≥1,0 x 105MΩ | D: 80 H: 22 H: 26 D: 16 M:5 |
Los condensadores de manija de puerta de alto voltaje sirven como componentes críticos en la regulación y estabilización de la energía para:
- Sistemas de limpieza de plasma
- Equipos de pulverización por magnetrón
- Herramientas para la modificación de superficies con láser
- Extremadamente estable y con bajo ruido:Asegura una densidad de plasma constante, energía láser y velocidades de pulverización
- Capacidad de potencia de pulso eficiente:Soporta pulsos instantáneos de alta frecuencia y alta energía
- Resistencia a los golpes de carga muy fuerte:Mantiene la estabilidad durante la ignición del plasma y las fluctuaciones
- Apoyo y filtración del enlace de CC:Suaviza la ondulación de alta frecuencia para un alto voltaje de CC limpio y estable
- Los reservorios de energía de pulso:Almacena y libera energía para impulsos de potencia de pico alto
- Alta densidad de energía con capacidad de carga/descarga rápida
- Inductancia en serie equivalente (ESL) extremadamente baja para la entrega instantánea de energía
- Fundido al vacío de resina epoxi resistente con carcasa metálica para una durabilidad industrial
- Excelente resistencia a la humedad, el polvo y la corrosión química
Elegir nuestros condensadores de alta tensión garantiza un control energético preciso para sus aplicaciones de procesamiento de materiales más exigentes.

